Центр коллективного пользования уникальным научным оборудованием в области нанотехнологий
Сокращенное наименование ЦКП: ЦКП МФТИ
Базовая организация: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования «Московский физико-технический институт (государственный университет)»
Ведомственная принадлежность: Минобрнауки России
Год создания ЦКП: 2007
Сайт ЦКП: http://mipt.ru/about/departments/ckpn/
Контактная информация:
Местонахождение ЦКП:
|
Руководитель ЦКП:
|
Контактное лицо:
|
Сведения о результативности за 2018 год (данные ежегодного мониторинга)
|
Краткое описание ЦКП:
Целью деятельности центра коллективного пользования уникальным научным оборудованием в области нанотехнологий (ЦКП МФТИ) является: повышение уровня фундаментальных и прикладных исследований физико-химических свойств поверхности твердого тела, нанообъектов, исследования материалов, структур и объектов нанотехнологий; привлечение высококвалифицированного персонала к разработке и максимально широкому применению новых методов исследований при выполнении совместных научных и научно-технических проектов; подготовка высококвалифицированного персонала в ходе стажировок, участия студентов, магистрантов и аспирантов в выполнении фундаментальных и прикладных научных исследований. |
Направления научных исследований, проводимых в ЦКП:
|
Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):
|
Фотографии ЦКП:



Научное оборудование ЦКП (номенклатура — 22 ед., нет данных о загрузке за 2019 год):
Вакуумная напылительная установка MagSput-DC-RF (TOR)
Двухлучевой растровый электронный микроскоп Quanta 200 3D (FEI)
Зондовая станция для электрофизических применений SUMMIT 11000B-M (Cascade Microtech)
Интерферометрическая микроскопическая система
Комплекс для электрофизических измерений полупроводниковых структур
Принтер для прямой печати пассивных элементов Dimatix Materials Printer DMP-2831 (Fujifilm)
Просвечивающий электронный микроскоп JEM-2100 (JEOL)
Растровый электронный микроскоп Qunta 200 (FEI) с системами комбинированного энергодисперсионного и волнового микроанализа, дифракции обратно рассеянных электронов, катодолюминисценции
Растровый электронный микроскоп высокого разрешения JSM-7001F (JEOL)
Рентгеновский дифрактометр ARL XTRA
Система для оптической 3D нанолитографии
Система плазмохимического травления
Система плазмохимического травления с вакуумным шлюзом Trion
Сканирующий зондовый микроскоп Ntegra Prima (NT-MDT)
Спектроскопический эллипсометр SER 800
Спектрофотометр высокого разрешения HR4000 CJ-UV-NIR (Ocean Optics)
Установка атомно-слоевого осаждения, Picosun (R200 Advanced), (Picosun Oy)
Установка безмаскового совмещения и экспонирования MLA 100 (Heidelberg Instruments)
Установка импульсного лазерного осаждения PLD IVO-250-0.3-15 (Серния)
Установка химико-механической полировки ХМП ВТ 370
Установка электронно- лучевой литографии CABL- 9050C (CRESTEC)
Установка электронно-лучевого осаждения MEB 550 S (Plassys) |
Услуги ЦКП (номенклатура — 18 ед.):
Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899): Индустрия наносистем; Информационно-телекоммуникационные системы Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899): Индустрия наносистем Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899): Индустрия наносистем Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899): Индустрия наносистем Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899): Рациональное природопользование Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899): Индустрия наносистем Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899): Индустрия наносистем Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899): Индустрия наносистем Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899): Индустрия наносистем Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899): Индустрия наносистем Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899): Индустрия наносистем Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899): Индустрия наносистем Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899): Индустрия наносистем Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899): Индустрия наносистем Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899): Индустрия наносистем Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899): Индустрия наносистем Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899): Индустрия наносистем Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899): Индустрия наносистем |
Методики измерений, применяемые в ЦКП (номенклатура — 21 ед.):
Вольт-амперная характеристика наноматериалов и наноструктур. Методика измерений с помощью сканирующего зондового атомно-силового микроскопа.
Наименование организации, аттестовавшей методику :
Открытое акционерное общество Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума (ОАО НИЦПВ) Дата аттестации: 29.04.2013
Линейные размеры микро- и нанообъектов. Методика выполнения измерений с помощью растрового электронного микроскопа Quanta 200.
Наименование организации, аттестовавшей методику :
Открытое акционерное общество Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума (ОАО НИЦПВ) Дата аттестации: 12.11.2009
Локальное электрическое сопротивление наноматериалов и наноструктур. Методика выполнения измерений с помощью сканирующего зондового атомно-силового микроскопа для электрофизических измерений.
Наименование организации, аттестовавшей методику :
Открытое акционерное общество Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума (ОАО НИЦПВ) Дата аттестации: 07.05.2010
Локальный химический анализ оксидных наноразмерных структур. Методика измерений с помощью рентгеновского фотоэлектронного спектрометра.
Наименование организации, аттестовавшей методику :
Открытое акционерное общество Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума (ОАО НИЦПВ) Дата аттестации: 29.04.2013
Методика выполнения измерения диссипационных свойств поверхности с помощью широкополосной атомно-силовой акустической микроскопии
Наименование организации, аттестовавшей методику :
Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт оптико-физических измерений" (ФГУП «ВНИИОФИ») Дата аттестации: 20.12.2018 Методика уникальна: для России
Методика измерения глубин связанных состояний в диэлектрике структуры «металл-диэлектрик-полупроводник»
Наименование организации, аттестовавшей методику :
Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт оптико-физических измерений" (ФГУП «ВНИИОФИ») Дата аттестации: 21.12.2018 Методика уникальна: для России
Методика измерения поляризационного заряда наноразмерных областей сегнетоэлектрика с помощью АСМ
Наименование организации, аттестовавшей методику :
Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт оптико-физических измерений" (ФГУП «ВНИИОФИ») Дата аттестации: 20.12.2018 Методика уникальна: для России
Методика измерения предельной скорости переключения ячейки памяти, управляемой напряжением
Наименование организации, аттестовавшей методику :
Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт оптико-физических измерений" (ФГУП «ВНИИОФИ») Дата аттестации: 21.12.2018 Методика уникальна: для России
Методика измерения распределения концентрации основных носителей в полупроводнике структуры «металл-диэлектрик-полупроводник»
Наименование организации, аттестовавшей методику :
Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт оптико-физических измерений" (ФГУП «ВНИИОФИ») Дата аттестации: 21.12.2018 Методика уникальна: для России
Методика измерения контактной жесткости поверхности с помощью широкополосной атомно-силовой акустической микроскопии
Наименование организации, аттестовавшей методику :
Федеральное государственное унитарное предприятие «Всероссийский научно-исследовательский институт оптико-физических измерений» (ФГУП «ВНИИОФИ») Дата аттестации: 28.12.2017 Методика уникальна: для России
Методика измерений распределения сегнетоэлектрических кристаллитов с помощью широкополосной микроскопии пьезоотклика
Наименование организации, аттестовавшей методику :
Федеральное государственное унитарное предприятие «Всероссийский научно-исследовательский институт оптико-физических измерений» (ФГУП «ВНИИОФИ») Дата аттестации: 28.12.2017 Методика уникальна: для России
Метрические параметры поверхности. Методика выполнения измерений с помощью сканирующего зондового микроскопа Ntegra Prima
Наименование организации, аттестовавшей методику :
Открытое акционерное общество Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума (ОАО НИЦПВ) Дата аттестации: 01.09.2009
Площадь контактов. Методика измерений с помощью растрового электронного микроскопа в режиме регистрации отраженных электронов.
Наименование организации, аттестовавшей методику :
Открытое акционерное общество Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума (ОАО НИЦПВ) Дата аттестации: 29.04.2013
Состав эпитаксиальных плёнок AlxGa1-xAs на подложке GaAs. Методика выполнения измерений с помощью порошкового рентгеновского дифрактометра.
Наименование организации, аттестовавшей методику :
Открытое акционерное общество Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума (ОАО НИЦПВ) Дата аттестации: 07.05.2010
Толщина и межслоевой период тонких плёнок. Методика выполнения измерений с помощью порошкового рентгеновского дифрактометра.
Наименование организации, аттестовавшей методику :
Открытое акционерное общество Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума (ОАО НИЦПВ) Дата аттестации: 07.05.2009
Толщина МИМ-структур (металл-изолятор-металл). Методика измерения с помощью рентгеновского дифрактометра.
Наименование организации, аттестовавшей методику :
Открытое акционерное общество Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума (ОАО НИЦПВ) Дата аттестации: 25.12.2015
Толщина тонкой плёнки. Методика измерений с помощью просвечивающего электронного микроскопа.
Наименование организации, аттестовавшей методику :
Открытое акционерное общество Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума (ОАО НИЦПВ) Дата аттестации: 28.11.2014
Толщина тонкой пленки. Методика измерения с помощью рентгеновского дифрактометра.
Наименование организации, аттестовавшей методику :
Открытое акционерное общество Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума (ОАО НИЦПВ) Дата аттестации: 25.12.2015
Химический анализ поверхности. Методика выполнения измерений с помощью блока детектирования рентгеновского излучения кремниевого в составе растрового электронного микроскопа.
Наименование организации, аттестовавшей методику :
Открытое акционерное общество Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума (ОАО НИЦПВ) Дата аттестации: 15.12.2009
Ширина литографической линии. Методика измерений с помощью растрового электронного микроскопа.
Наименование организации, аттестовавшей методику :
Открытое акционерное общество Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума (ОАО НИЦПВ) Дата аттестации: 28.11.2014
Эффективная шероховатость поверхности. Методика выполнения измерений с помощью сканирующего зондового микроскопа Ntegra Prima.
Наименование организации, аттестовавшей методику :
Открытое акционерное общество Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума (ОАО НИЦПВ) Дата аттестации: 12.11.2009 |