Центры коллективного пользования

Научно-образовательный центр «Функциональные микро/наносистемы» (НОЦ ФМНС)

ЦКП создан в 2007 году

Данный университет является победителем конкурсного отбора программ развития университетов, в отношении которых устанавливается категория «национальный исследовательский университет (НИУ)»
Адрес
  • Центральный, г. Москва
  • 105082, г. Москва, Рубцовская наб., д. 2/18
  • 🌎http://fmn.bmstu.ru/
Руководитель
  • 👤Родионов Илья Анатольевич
  • 📞(499) 2636531
  • irodionov@bmstu.ru
Контактное лицо
Сведения о результативности за 2016 год (данные мониторинга)
Участие в мониторинге Число организаций-пользователей, ед. Число публикаций, ед. Загрузка в интересах внешних организаций-пользователей, %
да101440.44
Базовая организация

Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования «Московский государственный технический университет имени Н.Э. Баумана (национальный исследовательский университет)»

Информация о центре коллективного пользования (ЦКП)

   Научно-образовательный центр «Функциональные Микро/Наносистемы» (ранее Учебно-инженерный центр нанотехнологий, нано- и микросистемной техники) – ультра современный  технологический центр, комплексно обновленный в 2015-2016 году, который поддерживает и обеспечивает реализацию передовых практических исследований в области оптоэлектронной элементной базы на новых физических принципах, нанофотоники и оптики, квантовых вычислений, биоаналитических платформ типа «лаборатория-на-чипе», интегрированных систем на базе МЭМС, а также тонкопленочных и толстопленочных технологий. НОЦ ФМНС является структурным подразделением МГТУ им. Н.Э. Баумана. Исследования в центре выполняются с использованием оборудования различных подразделений Университета, объединенных в единый технологический кластер, а также на оборудовании, приобретаемом в рамках динамично развивающегося промышленного консорциума.
   Технологический комплекс включает 600м2 чистокомнатных помещений с классом чистоты от ISO3 до ISO7, новейшее технологическое оборудование и необходимую для его работы уникальную инфраструктуру. Проектирование и реализация подсистем технологического центра проведена с привлечение ведущий мировых компаний, работающих в области микроэлектроники и нанотехнологий, таких как MECAL (Голландия), HAGER+ELSÄSSER (Германия), SIT AG (Швейцария), Faith (Германия), Atlas Copco (Швеция), Linde Gas (Германия), Ritterwand (Германия), Forbo Group (Швейцария) и др.
   В НОЦ ФМНС научным группам МГТУ им. Н.Э.Баумана доступны современные технологии микроэлектроники и нанотехнологий такие, как оптическая и лазерная литография, различные виды травления (плазмохимическое, жидкостное, паровое), методы физического напыления тонких пленок и напыления из газовой фазы, а также широкие метрологические возможности (сканирующая электронная микроскопия, профилометрия, рефлектометрия, эллипсометрия, оптическая микроскопия и др.), а также возможности пробоподготовки, сборки, изготовления трехмерных деталей и корпусов.
   Для обеспечения требуемых условий работы технологического оборудования в НОЦ реализованы уникальные инфраструктурные подсистемы. Трехступенчатая очистка воздуха, поступающего в лабораторию, оканчивающаяся HEPA и ULPA-фильтрами, которые задерживают до 99,9995% частиц пыли. Четырехступенчатая система виброизоляция высоко чувствительного технологического оборудования, обеспечивающая виброскорости по трем измерениям менее 1мкм/с. Установка подготовки ультрачистой деионизованной воды класса E1 с выходной фильтрацией частиц размером менее 20нм. Система обеспечения магистральным азотом (чистотой 5,0) и специальными особо чистыми газами (чистотой до 6,0) для реализации операций осаждения и травления тонких пленок. Системы оборотного водоохлаждения, обеспечения сжатым воздухом и низким вакуумом, а также три типа вытяжки со скрубберами для обеспечения требуемой очистки воздуха.
   Оборудование НОЦ ФМНС, закупленное в рамках ФАИП (2007г.) и НИУ (2009-2015 г.), используется для выполнения НИР и ОКР в рамках ФЦП «Исследования и разработки по приоритетным направлениям развития научно-технологического комплекса России на 2007—2013 годы», «Научные и научно-педагогические кадры инновационной России» Министерства образования и науки РФ, различных ФЦП Министерства промышленности и торговли, проектов Фонда перспективных исследований, а также других грантов и хоздоговорных работ. Кроме того, оборудование используется другими структурными подразделениями Университета, а также промышленными предприятиями для выполнения совместных НИОКР.
   ЦКП обеспечивает образовательную, научно-исследовательскую и опытно-технологическую деятельность кафедр и научных центров МГТУ им. Н.Э.Баумана.

Направления научных исследований

  • Нанофотоника и оптика;
  • Квантовые вычисления;
  • Бионанотехнологии;
  • МЭМС/НЭМС/МОЭМС;
  • Полимерные и наноструктурированные тонкопленочные и толстопленочные покрытия;
  • Альтернативная энергетика.

Уникальные научные установки (УНУ) в составе оборудования ЦКП

105082, г. Москва, Рубцовская наб., д. 2/18
📷

Оборудование (29)

Наименование Страна Фирма-изготовитель Марка Год
Устройство для вакуумной упаковки пакетов AZ-450E (AirZero)
Республика Корея AirZero 2015
Стенд для формирования многослойных коммутационных структур на полупроводниковых термоэлектрических ветвях методом лазерного 3D принтинга на базе лазерной системы Фотон-компакт
Россия 2016
Тепловизор A655sc c германиевым объективом (FLIR)
Германия FLIR 2015
Стенд измерительного прецизионного измерения изменений массы MSA225S-100-DI
Германия Sartorius 2011
Тигельный пресс-рекомбинатор горячего тиснения РЕ-1200 (MNHS)
Россия MNHS РЕ-1200 2011
Атомно-силовой микроскоп Solver NexT (НТ-МДТ)
Россия ЗАО НТ-МДТ (ЗАО Нанотехнология МДТ, Инструменты нанотехнологий, Нанотехнология Санкт-Петербург, NT-MDT) Solver NexT 2013
Комплекс оборудования для оснащения учебных лабораторий в области инженерных и естественных наук по распределенным сенсорным системам (EvoVac, Angstrom Eng., Канада и 1300Х HMDS, Brewer Science, США).
Канада Angstrom Engineering Angstrom Engineering Evovac 2015
Стенд экспериментальный на базе стереомикроскопа (Elveflow)
Франция Elveflow 2015
Установка контактной литографии и совмещения для бондинга MA/BA8 Gen3 (SussMicro Tec)
Германия SussMicro Tec SussMicro Tec MA/BA8 Gen3 2015
Стереомикроскоп Leica ES 2 (Leica Mirosystems)
Швейцария Leica Mirosystems GmbH Leica ES 2 2013
Установка инспекции поверхности в ИК-свете WBI200 (Idonus Sarl)
Швейцария Idonus Sarl Idonus WBI200 2015
Установка бондинга SussMicroTec SB8 Gen2 (SussMicro Tec)
Германия SussMicroTec SussMicroTec SB8 Gen2 2015
Стенд экспериментальный для участка микрофлюидики в комплекте Dolomite
Великобритания Dolomite 2015
Лазерный генератор изображения uPG101 (Heidelberg)
Германия Heidelberg uPG101 2013
Установка сушки и дубления фоторезиста CEE 1300X (Brewer Science)
Соединённые Штаты Америки Brewer Science CEE 1300X 2013
Установка нанесения и сушки фоторезиста CEE 200CBX (Brewer Science)
Соединённые Штаты Америки Brewer Science CEE 200CBX 2013
Стенд экспериментальный плазменной очистки и активации поверхности в среде инертных газов модель Pico (Diener Electronic)
Германия Diener Electronic GmbH Pico 2013
Шлифовально-полировальный станок П12М (Полилаб)
Россия Полилаб Полилаб П12М 2014
Гидравлический пресс для подготовки образцов TechPress 2 (Allied High Tech Products)
Соединённые Штаты Америки Allied High Tech Products, Inc. Allied TechPress 2 2015
Прецизионный отрезной станок Allied techcut 5 (Allied High Tech Products)
Соединённые Штаты Америки Allied High Tech Products, Inc. Allied 2015
Сверхвысоковакуумный многокамерный нанотехнологический комплекс (НТ-МТД)
Россия ЗАО "НТ-МДТ" блоки Нанофаб 100 2007
ВВ камера для нанесения наноструктур на оптические покрытия
- дорогостоящее оборудование
- наиболее востребованное оборудование
Россия НТ-МДТ Orsay Physics 2006
Установка для нанесения твердых покрытий вместе с технологией Platit pi-80
Швейцария Platit Platit pi-80 2008
Анализатор размеров частиц лазерный дифракционный Microtrac Bluewave
Соединённые Штаты Америки Microtrac Microtrac Bluewave 2008
Междисциплинарная научно-учебная лаборатория электронно-оптической микроскопии FEI Phenom
Нидерланды FEI Company FEI Phenom 2005
Система сверхвысоковакуумная для проведения послойного анализа выращенных гетероструктур (Specs)
Германия Specs Specs 2009
Зондовая нанолаборатория Интегра Спектра Апрайт (НТ-МДТ)
Россия ЗАО "НТ-МДТ" «Интегра Спектра» 2005
Сверхвысоковакуумный сканирующий зондовый микроскоп с комплектом эл-в JSPM-4610А (JEOL)
Япония JEOL, Ltd JSPM-4610А 2005
Инфракрасный эллипсометр FTIR-Vase (J.A. Woollam Inc)
Соединённые Штаты Америки J.A. Woollam Inc IR-VASE 2006

Услуги (62)

Для подачи заявки на оказание услуги щелкните по ее наименованию.
Наименование Приоритетное направление
Устройство для вакуумной упаковки пакетов AZ-450E (AirZero, Южная Корея). Упаковка образцов.
Индустрия наносистем
Стенд для формирования многослойных коммутационных структур на полупроводниковых термоэлектрических ветвях методом лазерного 3D принтинга на базе лазерной системы "Фотон-компакт" (Лазерный гравер, Россия). Работа на оборудовании.
Индустрия наносистем
Тепловизор A655sc c германиевым объективом (FLIR, Германия). Использование тепловизора.
Индустрия наносистем
Стенд для прессования из порошка объемного термоэлектрического полупроводникового материала с заданными свойствами на базе станка Allied TechPress 2 ((Allied High Tech Products, США). Горячая запрессовка образцов.
Индустрия наносистем
Стенд для динамического измерения адгезионных и антифрикционных параметров термоэлектрических материалов и коммутационных покрытий на базе станка Allied techcut 5 (Allied High Tech Products, США). Прецизионная резка.
Индустрия наносистем
Стенд измерительного прецизионного измерения изменений массы MSA225S-100-DI (Sartorius, Германия). Взвешивание образцов.
Индустрия наносистем
Установка сушки и дубления фоторезиста СЕЕ1300Х (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца (термообработка 1 час)
Индустрия наносистем
Установка сушки и дубления фоторезиста СЕЕ1300Х (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца (термообработка 45 минут)
Индустрия наносистем
Установка сушки и дубления фоторезиста СЕЕ1300Х (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца (термообработка 30 минут)
Индустрия наносистем
Установка сушки и дубления фоторезиста СЕЕ1300Х (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца (термообработка 15 минут)
Индустрия наносистем
Установка сушки и дубления фоторезиста СЕЕ1300Х (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца (термообработка 1 минута)
Индустрия наносистем
Установка нанесения и сушки фоторезиста СЕЕ 200СВХ (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца, нанесение HSQ.
Индустрия наносистем
Установка нанесения и сушки фоторезиста СЕЕ 200СВХ (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца, нанесение SU-8.
Индустрия наносистем
Установка нанесения и сушки фоторезиста СЕЕ 200СВХ (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца, подслой OmniCoat для нанесения SU8.
Индустрия наносистем
Установка нанесения и сушки фоторезиста СЕЕ 200СВХ (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца, нанесение SPR 955-1,4 CM.
Индустрия наносистем
Установка нанесения и сушки фоторезиста СЕЕ 200СВХ (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца, нанесение Ultra-i123 0,8.
Индустрия наносистем
Установка нанесения и сушки фоторезиста СЕЕ 200СВХ (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца, нанесение AZ1505.
Индустрия наносистем
Установка нанесения и сушки фоторезиста СЕЕ 200СВХ (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца, нанесение LOR-5B.
Индустрия наносистем
Установка нанесения и сушки фоторезиста СЕЕ 200СВХ (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца, нанесение адгезива TI Prime.
Индустрия наносистем
Установка нанесения и сушки фоторезиста СЕЕ 200СВХ (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца, нанесение защитного проводящего покрытия Electra 92 AR-PC 5090,02
Индустрия наносистем
Установка нанесения и сушки фоторезиста СЕЕ 200СВХ (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца, нанесение Copolymer Resists EL9.
Индустрия наносистем
Установка нанесения и сушки фоторезиста СЕЕ 200СВХ (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца, нанесение Copolymer Resists EL6.
Индустрия наносистем
Установка нанесения и сушки фоторезиста СЕЕ 200СВХ (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца, нанесение электронно-лучевого резиста CSAR 62 (SX AR-P 6200.04).
Индустрия наносистем
Установка нанесения и сушки фоторезиста СЕЕ 200СВХ (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца, нанесение ПММА 950k AR-P 672.03.
Индустрия наносистем
Установка нанесения и сушки фоторезиста СЕЕ 200СВХ (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца, нанесение ПММА 950k.
Индустрия наносистем
Установка нанесения и сушки фоторезиста СЕЕ 200СВХ (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца, нанесение ПММА 950k, А7.
Индустрия наносистем
Установка нанесения и сушки фоторезиста СЕЕ 200СВХ (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца, нанесение ПММА 950k, А4.
Индустрия наносистем
Установка нанесения и сушки фоторезиста СЕЕ 200СВХ (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца, нанесение ПММА 950k.
Индустрия наносистем
Установка нанесения и сушки фоторезиста СЕЕ 200СВХ (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца (с материалами заказчика).
Индустрия наносистем
Установка инспекции поверхности в ИК-свете WBI200 (Idonu Sarl, Швейцария). Обработка образца.
Индустрия наносистем
Установка бондинга SussMicroTec SB8 Gen2(SussMicro Tec, Германия). Обработка образца.
Индустрия наносистем
Стенд экспериментальный плазменной очистки и активации поверхности в среде инертных газов модель Pico (Diener Electronic, Германия). Обработка образца.
Индустрия наносистем
Стенд экспериментальный на базе стереомикроскопа (Elveflow, Франция и Nikon, Япония). Исследование работы микрофлюидных устройств.
Индустрия наносистем
Стенд экспериментальный для участка микрофлюидики в комплекте (Dolomite, Великобритания). Исследование работы микрофлюидных устройств.
Индустрия наносистем
Установка контактной литографии и совмещения для бондинга MA/BA8 Gen3 (SussMicro Tec, Германия). Экспонирование образца.
Индустрия наносистем
Лазерный генератор изображения uPG101 (Heidelberg Instruments, Германия). Обработка образца.
Индустрия наносистем
Комплекс оборудования для оснащения учебных лабораторий в области инженерных и естественных наук по распределенным сенсорным системам (EvoVac, Angstrom Eng., Канада и 1300Х HMDS, Brewer Science, США). Дегидратация и обработка в парах ГМДС образца.
Индустрия наносистем
Комплекс оборудования для оснащения учебных лабораторий в области инженерных и естественных наук по распределенным сенсорным системам (EvoVac, Angstrom Eng., Канада и 1300Х HMDS, Brewer Science, США). Формирование пленки оксида циркония.
Индустрия наносистем
Комплекс оборудования для оснащения учебных лабораторий в области инженерных и естественных наук по распределенным сенсорным системам (EvoVac, Angstrom Eng., Канада и 1300Х HMDS, Brewer Science, США). Формирование пленки оксида кремния.
Индустрия наносистем
Комплекс оборудования для оснащения учебных лабораторий в области инженерных и естественных наук по распределенным сенсорным системам (EvoVac, Angstrom Eng., Канада и 1300Х HMDS, Brewer Science, США). Формирование пленки титана.
Индустрия наносистем
Комплекс оборудования для оснащения учебных лабораторий в области инженерных и естественных наук по распределенным сенсорным системам (EvoVac, Angstrom Eng., Канада и 1300Х HMDS, Brewer Science, США). Формирование пленки алюминия.
Индустрия наносистем
Комплекс оборудования для оснащения учебных лабораторий в области инженерных и естественных наук по распределенным сенсорным системам (EvoVac, Angstrom Eng., Канада и 1300Х HMDS, Brewer Science, США). Формирование пленки хрома.
Индустрия наносистем
Комплекс оборудования для оснащения учебных лабораторий в области инженерных и естественных наук по распределенным сенсорным системам (EvoVac, Angstrom Eng., Канада и 1300Х HMDS, Brewer Science, США). Формирование тонких пленок (с материалами заказчика).
Индустрия наносистем
Анализатор размеров частиц лазерной дифракционный Bluewave (Microtrac, США). Проведение измерений «жидкостным» методом (изопропиловый спирт).
Индустрия наносистем
Анализатор размеров частиц лазерной дифракционный Bluewave (Microtrac, США). Проведение измерений «Сухим» или «жидкостным» методом (дионизованная вода).
Индустрия наносистем
Сверхвысоковакуумный сканирующий зондовый микроскоп с комплектом эл-в (JSPM-4610А, JEOL, Япония). Исследование при крио температурах.
Индустрия наносистем
Сверхвысоковакуумный многокамерный нанотехнологический комплекс ("блокиНанофаб 100", НТ-МТД, Россия). Исследование методом СЗМ.
Индустрия наносистем
Зондовая нанолаборатория Интегра Спектра Апрайт (НТ-МДТ, Россия). СБОМ исследования.
Индустрия наносистем
Зондовая нанолаборатория Интегра Спектра Апрайт (НТ-МДТ, Россия). Исследование методом СЗМ.
Индустрия наносистем
Обучение современным методикам выполнения измерений микро- и наноструктуры и комплекса свойств материалов на научно-исследовательском оборудовании ЦКП
Индустрия наносистем
Комплексные исследования и разработка конструкторских и технологических решений в области термоэлектричества.
Транспортные и космические системы
Сверхвысоковакуумный сканирующий зондовый микроскоп с комплектом эл-в (JSPM-4610А, JEOL, Япония). Типовое исследование.
Индустрия наносистем
Установка для нанесения твердых покрытий вместе с технологией. (Platit pi-80, Швейцария). Обработка образца.
Индустрия наносистем
Сверхвысоковакуумный многокамерный нанотехнологический комплекс ("блоки Нанофаб 100", НТ-МТД, Россия). Травление фокусированным ионным пучком.
Индустрия наносистем
Система сверхвысоковакуумная для проведения послойного анализа выращенных гетероструктур (Specs, Германия). Поверхностный химический и элементный анализ.
Индустрия наносистем
Зондовая нанолаборатория Интегра Спектра Апрайт (НТ-МДТ, Россия). КРС исследования.
Индустрия наносистем
Инфракрасный эллипсометр FTIR-Vase (J.A. Woollam Inc, США). Проведение исследования
Индустрия наносистем
Междисциплинарная научно-учебная лаборатория электронно-оптической микроскопии (FEI Phenom, Нидерланды). Проведение измерений
Индустрия наносистем
Исследование кинетики образования и параметров наноразмерных наноструктурированных пленок, конденсирующихся на элементах термостабилизированной оптики космических аппаратов
- наиболее востребованная услуга
Индустрия наносистем
Исследование микро- и наноструктуры различных упрочняющих покрытий для быстрорежущего инструмента
- наиболее востребованная услуга
Индустрия наносистем
Теоретическое исследование процессов деформирования и разрушения конструкций из композиционного материала при силовом нагружении
Индустрия наносистем
Определение физико-механических характеристик композиционного материала
Индустрия наносистем

Методики (18)

Наименование методики Наименование организации, аттестовавшей методику Дата аттестации
Определение гранулометрического состава порошковой краски. Метод лазерной дифракции
Микроскопы сканирующие зондовые семейств Solver и Ntegra (методика поверки) ГЦИ СИ ФГУП "ВНИИМС" 14.04.2010
МЕТОДИКА ИЗМЕРЕНИЙ ЭФФЕКТИВНОЙ ВЫСОТЫ ШЕРОХОВАТОСТИ ПОВЕРХНОСТИ С ПОМОЩЬЮ СКАНИРУЮЩЕГО ЗОНДОВОГО АТОМНО-СИЛОВОГО МИКРОСКОПА Федеральное агентство по техническому регулированию и метрологии 05.04.2010
Методика первичной (периодической) аттестации установки термовакуумных испытаний "Термовакуумная камера на базе климатической установки УТВТ-14КМ" Автономная некоммерческая организация "Институт метрологии обороны и безопасности" (АНО "ИМОБ") 16.07.2009
Методика первичной (периодической) аттестации установки термовакуумных испытаний "Термовакуумная камера на базе климатической установки УТВТ-1 км4" Автономная некоммерческая организация "Институт метрологии обороны и безопасности" (АНО "ИМОБ") 16.07.2009
Методика первичной (периодической) аттестации установки термовакуумных испытаний "Термовакуумная камера на базе климатической установки VTU75/100" Автономная некоммерческая организация "Институт метрологии обороны и безопасности" (АНО "ИМОБ") 21.08.2009
Методика исследования морфологии и шероховатости поверхности методом атомно-силовой микроскопии
Методика определения оптических констант углеродных алмазоподобных покрытий методом ИК-спектральной эллипсометрии
Методика гранулометрического анализа нано- и микроразмерных порошков и суспензий методом лазерной дифракции
Методика экспериментального исследования деградационных явлений в многослойных наноразмерных полупроводниковых резонансно-туннельных гетероструктурах
Методика исследований термоэлектрических модулей (ноу-хау)
Методика исследования диффузии кремния в структурах на основе GaAs методом ИК-спектральной эллипсометрии
Методика определения параметров наличия капельной фазы покрытий методом электронной микроскопией
Методика определения потери массы и содержание летучих конденсирующихся веществ при вакуумно-тепловом воздействии
Методика определения параметра дефектности поверхности строения кристаллической структуры поверхности материалов на основе кремния
Методика исследования влияния плазмо-химической модификации политетрафторэтилена (ПТФЭ) на химические связи поверхности (ПТФЭ) с помощью ИК-спектральной эллипсометрии
Методика измерения химических связей политетрафторэтилена (ПТФЭ) после плазмо-химической модификации на поверхности с помощью спектрометра комбинационного рассеяния
Методика измерения параметра среднего квадратического отклонения высоты шероховатости политетрафторэтилена (ПТФЭ) после плазмо-химической модификации на поверхности с помощью зондового атомно-силового микроскопа

Возврат к списку


0 комментариев

Комментарии отсутствуют!

Вы можете оставить свое сообщение первым.

Написать комментарий