Вебинары РИЭПП17 мая запланировано проведение вебинара на тему «Нормативно-правовая база функционирования центров коллективного пользования научным оборудованием (ЦКП) и особенности работы с порталом ckp-rf.ru».

Записаться на вебинар и посмотреть программу других вебинаров.

Каталог оборудования центров коллективного пользования


Установка эпитаксии из газовой фазы Epic CVD (SMI)

Владелец данного оборудования
Назначение прибора

Установка предназначена для эпитаксиального роста пленок карбида кремния на подложках диаметром 3 дюйма методом химического осаждения из газовой фазы.

Информация об оборудовании

  • Марка: Epic CVD
  • Фирма-изготовитель: SMI
  • Год выпуска: 2011
  • Количество единиц: 1

Назад в раздел


0 комментариев

Комментарии отсутствуют!

Вы можете оставить свое сообщение первым.

Написать комментарий