Каталог оборудования центров коллективного пользования


Установка эпитаксии из газовой фазы Epic CVD (SMI)

Владелец данного оборудования
Назначение прибора

Установка предназначена для эпитаксиального роста пленок карбида кремния на подложках диаметром 3 дюйма методом химического осаждения из газовой фазы.

Информация об оборудовании

  • Марка: Epic CVD
  • Фирма-изготовитель: SMI
  • Год выпуска: 2011
  • Количество единиц: 1

Назад в раздел


0 комментариев

Комментарии отсутствуют!

Вы можете оставить свое сообщение первым.

Написать комментарий