Каталог оборудования центров коллективного пользования


Установка для плазмохимического осаждения из газовой фазы LPX PECVD (SPP Process Technology Systems)

Владелец данного оборудования
Назначение прибора

Осаждение SiNx, SiO2 из газовой фазы на подложки с использованием плазменного разложения реакционного газа.

Информация об оборудовании

  • Марка: LPX PECVD
  • Фирма-изготовитель: SPTS
  • Год выпуска: 2009
  • Количество единиц: 1

Назад в раздел


0 комментариев

Комментарии отсутствуют!

Вы можете оставить свое сообщение первым.

Написать комментарий