ГлавнаяЦентры коллективного пользованияУслугиОБЪЕКТЫнанообъекты Нанесение электронно-лучевого резиста CSAR 62 (SX AR-P 6200.04).

Услуга центра коллективного пользования

Установка нанесения и сушки фоторезиста СЕЕ 200СВХ (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца, нанесение электронно-лучевого резиста CSAR 62 (SX AR-P 6200.04).

Данную услугу выполняет
  • ЦКП: Научно-образовательный центр «Функциональные микро/наносистемы»
  • Базовая организация: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования «Московский государственный технический университет имени Н.Э. Баумана (национальный исследовательский университет)»
  • 🌎Регион: Центральный, г. Москва
  • Адрес: 105082, г. Москва, Рубцовская наб., д. 2/18
Описание услуги

Нанесение электронно-лучевого резиста CSAR 62 (SX AR-P 6200.04).

Приоритетные направления
Ваше имя*
Ваш E-mail*
Сообщение*
Защита от автоматических сообщений
CAPTCHA
Введите слово на картинке*

Заявка на оказание услуги




























Выбрать дату в календаре


CAPTCHA