Ваш браузер устарел!

Браузер, которым вы пользуетесь для просмотра этого сайта, устарел и не соответствует современным технологическим стандартам Интернета.

Вы можете установить последнюю версию подходящего браузера, воспользовавшись ссылками ниже:


Ученые ЦКП «Микросистемная техника и электронная компонентная база» МИЭТ проводят исследования, направленные на создание оборудования для производства микросхем топологического уровня 28 нм и меньше

16 мая 2022

ЦКП «Микросистемная техника и электронная компонетная база» реализует проект «Разработка и исследование перспективных материалов и наноструктур для технологии безмасочной рентгеновской нанолитографии, применимой к созданию новой компонентной базы микро- и наноэлектроники с использованием источника синхротронного излучения», получивший поддержку в рамках мероприятий Федеральной научно-технической программы развития синхротронных и нейтронных исследований и исследовательской инфраструктуры на 2019 – 2027 годы.

Актуальность проекта связана с необходимостью оперативного создания отечественной элементной базы наноэлектроники с проектными нормами на уровне 20 нм и ниже. Партнерами МИЭТ по проекту являются Национальный исследовательский центр «Курчатовский институт» и Федеральный исследовательский центр Институт прикладной физики Российской Академии наук.

Безмасочная рентгеновская литография является прорывной технологией, позволяющей снизить зависимость от объемов производства. В то время как проекционная фотолитография является конкурентоспособной только при массовом производстве, данная технология нанолитографии может стать доступной не только глобальным игрокам (TSMC, Intel, Samsung), но и более мелким, что является критически важным для нашей страны.


Вернуться к списку новостей

 

Для просмотра сайта поверните экран